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小型エッチング装置 AEP-3000S取扱企業
アクテス京三株式会社カテゴリ
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エッチング装置の製品47点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 処理能力 | プログラム設定 | 回転数 | 開店時間 | チャンバー | ノズル | 使用薬液 | 真空スイッチ開閉圧 | 局所排気 | 電源 | 外形寸法 本体 (mm) | 外装仕様 | 重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
AEP-3000D |
要見積もり |
φ2インチ~φ6インチまたは、100mmx100mm (角形) 1枚 |
1プログラム最大99ステップ/50プログラムを保存可能 |
0~3,000rpm |
0~999sec |
オールテフロン製 |
薬液:2系統 リンス:1系統 |
酸素溶剤 |
-300mmmHg以下 |
排気ポート (0.3m3/分) |
AC100V 6A 50/60Hz |
55Wx500Dx620H |
SUS304製 |
約45kg |
エッチング装置の中で同じ条件の製品
工程分類: エッチング装置
エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC返答率
100.0%
返答時間
47.8時間
