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高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H取扱企業
アルバック販売株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年7月28日にレビュー済み
顧客対応への満足度
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初回対応までの時間への満足度
69.57時間
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エッチング装置の製品48点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 | 処理可能基板サイズ | 膜種 | 面内均一性 | プラズマソース | 基板電極温度 | デポジション対策 | プロセスレシピ編集方式 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
ULHITETM NE-7800H |
要見積もり |
カセット室／オートローダー |
6・8インチ |
強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など |
±5%以下 |
ISM (有磁場ICP) |
~400℃±5℃ |
ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等 |
マルチステップ方式 |
エッチング装置の中で同じ条件の製品
対象材料: 絶縁膜対応型
エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
