高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料 (強誘電体、貴金属、磁性膜等) のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。■用途
FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.■特長
・有磁場ICP (ISM) 方式-低圧・高密度プラズマによる不揮発性材料加工専用機 ・常温から高温 (400℃) 対応の積層膜一括エッチング、及びハードマスク除去までのエッチングソリューションを提供。 ・チャンバーから排気ライン、DRPまで均一加熱によるデポ対策。 ・メンテクリーニング費用やパーティクル発生を抑えた構造や材料、加熱機構等、不揮発性材料エッチングに豊富な経験を持つ量産装置。 ・長期の再現性･安定性を実現。-
シリーズ
高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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カテゴリ
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高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 | 処理可能基板サイズ | 膜種 | 面内均一性 | プラズマソース | 基板電極温度 | デポジション対策 | プロセスレシピ編集方式 |
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ULHITETM NE-7800H |
要見積もり |
カセット室／オートローダー 搬送室 エッチング室 予備加熱室 (オプション) 前後処理室 (オプション) |
6・8インチ | 強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など | ±5%以下 | ISM (有磁場ICP) | ~400℃±5℃ | ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等 | マルチステップ方式 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
