高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H-ULHITETM NE-7800H

高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H
アルバック販売株式会社

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■概要高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料 (強誘電体、貴金属、磁性膜等) のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。

■用途FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

■特長・有磁場ICP (ISM) 方式-低圧・高密度プラズマによる不揮発性材料加工専用機
・常温から高温 (400℃) 対応の積層膜一括エッチング、及びハードマスク除去までのエッチングソリューションを提供。
・チャンバーから排気ライン、DRPまで均一加熱によるデポ対策。
・メンテクリーニング費用やパーティクル発生を抑えた構造や材料、加熱機構等、不揮発性材料エッチングに豊富な経験を持つ量産装置。
・長期の再現性･安定性を実現。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H

取扱企業
アルバック販売株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマエッチング装置

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高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	装置構成	処理可能基板サイズ	膜種	面内均一性	プラズマソース	基板電極温度	デポジション対策	プロセスレシピ編集方式
	ULHITETM NE-7800H	要見積もり	カセット室／オートローダー搬送室エッチング室予備加熱室 (オプション) 前後処理室 (オプション)	6・8インチ	強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など	±5%以下	ISM (有磁場ICP)	~400℃±5℃	ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等	マルチステップ方式