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研究開発向け 高密度プラズマエッチング装置 NE-550EX取扱企業
アルバック販売株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年8月7日にレビュー済み
顧客対応への満足度
フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。
初回対応までの時間への満足度
1.11時間
Metoree経由で見積もり
2025年7月28日にレビュー済み
顧客対応への満足度
返信までのタイムラグがありましたが，返信内容は丁寧でした。
初回対応までの時間への満足度
69.57時間
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エッチング装置の製品48点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | システム構成 | 基板サイズ | 操作圧力 (Pa) | 面内・面間均一性 | 基板温度制御 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
NE-550EX |
要見積もり |
研究開発/プロトタイプ装置+Load Lock室 |
~150mm |
0.07~6.7 |
±3% max. |
静電チャック |
エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
