バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300-RISETM-300
バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300-アルバック販売株式会社

バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300
アルバック販売株式会社



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この製品について

■概要

バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置です。対象ウェーハ200mm、300mmをラインアップしています。

■用途

・セルフアラインコンタクト形成時の前処理 ・キャパシタ形成時の前処理 ・エピタキシャル成長時の前処理 ・Co (Ni) サリサイドの前処理

■特長

・高スループットと低CoOの実現 ・良好なエッチング均一性 (< ±5%/バッチ) と再現性 ・ドライプロセス ・ダメージフリー (リモートプラズマと低温プロセス) ・セルフアラインコンタクトの抵抗を従来のウェットプロセスの1/2に低減 ・フレキシブルな装置レイアウト ・メンテナンス性を重視 (サイドメンテフリー) ・300mmウェーハ50枚一括のバッチ処理

  • シリーズ

    バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300

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バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) プラズマ源 装置構成 基板サイズ 基板ステージ 排気系 制御系 ガス導入系 アプリケーション 主電源1 主電源2 ポンプラック 冷却水 本機用 冷却水 DRP・チラー用 圧縮空気 窒素ガス プロセスガス 排気 本機 排気 ガスボックス排気 (可燃ガス側) 排気 ガスボックス排気 (支燃ガス側) 排気 ポンプラック排気
バッチ式自然酸化膜除去装置 RISETM-300-品番-RISETM-300

RISETM-300

要見積もり マイクロウェーブ電源 EFEM+LL+PM φ300mm セラミックボート (50枚/バッチ) メカニカルブースターポンプ+DRP FAPC+TFTタッチパネル 3系統 SAC、キャパシタ、エピタキシャル成長サリサイド形成時の前処理 AC±208V,50/60Hz,3φ118A,41kVA AC±208V,50/60Hz,3φ83A,28.6kVA AC200V,50/60Hz,3φ86.5A,30kVA 0.2~0.5MPa
水温20~25℃
流量20L/min×2系統
0.2~0.5MPa
水温20~25℃
流量15L/min
0.4~0.7MPa 0.6~0.9MPa 0.6~0.9MPa 20m3/min 2.0m3/min 0.3m3/min 10.5m3/min

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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