枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ
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この製品について

■概要CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

■用途低温P-Si、α-Si TFT

■特長・従来のプロセス温度に比べ、より高温でも動作可能な各ユニットの駆動系、真空搬送ロボットの開発により安定した搬送系を実現しました。
・反応室内部構造、ガス供給システムの改良により　TEOS (SiO2) 膜の長期的に安定したレートを得ることができます。
・反応ガス経路の加熱化により除外設備までガス状態で排気でき、配管トラップ未使用にて配管等に副生成物の付着を抑制し、メンテナンス時間の短縮が可能になりました。
・成膜条件など基板個別管理が容易にできます。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ

取扱企業
アルバック販売株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマCVD装置

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枚葉式プラズマCVD装置 CMDシリーズ品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	基板サイズ (mm)	仕込取出室	加熱室	反応室	搬送室	真空排気系仕込取出室反応室	基板移載機	生産量
	CMD-450BHT	要見積もり	400×500×t0.7	2室	1室	4室 (アニール室がある場合3室)	1室 (7角形)	ロータリー+メカブドライ+メカブ	オプション	65秒／枚 (当社標準条件SiN 300nm単層)