全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
19.4時間
シリーズ
有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
もっと見る
半導体製造装置の製品183点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
次の条件に該当する商品を1件表示しています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 成膜室 (部屋数) | 蒸着源 (元) | 基板サイズ (inch) | 膜厚分解能 (Å/s) | 膜厚センサー導入数 (基) | 膜厚センサー冷却方式 | 有機材料共蒸着 | 面内分布 (%) | 前処理室 (室) | 導入室ストッカー数 (段) | 到達圧力 (Pa) | 真空排気系 | 入力電源 | 自動排気 | 自動ベント | 自動搬送 | 自動蒸着 | 蒸着時の基板加熱 | グローブボックス接続 | 装置のみ設置スペース (mm) |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
KVD-OLED Evo.Cluster |
要見積もり |
有機:2 |
有機:8×2 |
2 |
0.0057Å/s (INFICON社CYGNUS使用) |
有機:8 |
水冷 (チラーより0.01℃まで制御可) |
可 (独自のコントロール手法によりホスト1Å/s時ドープ混合率0.1~30wt%) |
50mmにて有機膜±3%以内 |
1 (プラズマ洗浄) |
12 |
成膜室+その他:10^-6台 |
成膜室:クライオポンプ |
3φ200V200A |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
可 (オプション) |
可 (オプション) |
2,000×2,000 |
半導体製造装置の中で同じ条件の製品
使用用途: 成膜
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 1 - 2 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260返答率
100.0%
返答時間
19.4時間