有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster-KVD-OLED Evo.Cluster
有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster-北野精機株式会社

有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster
北野精機株式会社



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この製品について

■用途

・有機EL材料開発 ・高分子材料開発 ・燐光材料開発 ・有機薄膜太陽電池開発 ・有機電子デバイス開発など

■特徴

・3軸ロボット機構にて、マスク及び試料搬送が可能 ・搬送室において、基板ホルダー真空封止機構搭載 (オプション) ・有機材料共蒸着が可能 (最大4元) ・有機材料が8種類、同部屋にて仕込み可能 ・有機蒸着室が2部屋装備の為、有機蒸着源が16元設置可能 ・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備 ・蒸着室内で基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能 ・基板とマスク間ギャップは最少 ・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5%以内 ・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない ・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い ・グローブボックスと接続可能である ・前処理室にてプラズマ基板洗浄が可能 ・導入室内には基板及びマスクホルダーが標準6枚ストック可能 ・PLC制御にて自動搬送、自動排気、自動蒸着が可能

  • シリーズ

    有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster

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有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 成膜室 (部屋数) 蒸着源 (元) 基板サイズ (inch) 膜厚分解能 (Å/s) 膜厚センサー導入数 (基) 膜厚センサー冷却方式 有機材料共蒸着 面内分布 (%) 前処理室 (室) 導入室ストッカー数 (段) 到達圧力 (Pa) 真空排気系 入力電源 自動排気 自動ベント 自動搬送 自動蒸着 蒸着時の基板加熱 グローブボックス接続 装置のみ設置スペース (mm)
有機EL試作用デバイス製造装置 有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.Cluster-品番-KVD-OLED Evo.Cluster

KVD-OLED Evo.Cluster

要見積もり 有機:2
金属:1
有機:8×2
金属:5
2 0.0057Å/s (INFICON社CYGNUS使用) 有機:8
金属:2
水冷 (チラーより0.01℃まで制御可) 可 (独自のコントロール手法によりホスト1Å/s時ドープ混合率0.1~30wt%) 50mmにて有機膜±3%以内
金属膜±5%以内
1 (プラズマ洗浄) 12 成膜室+その他:10^-6台
導入室:10^-5台
成膜室:クライオポンプ
前処理室:ターボ分子ポンプ
導入室:ターボ分子ポンプ
ドライポンプ (粗引きポンプ)
3φ200V200A 標準装備 標準装備 標準装備 標準装備 可 (オプション) 可 (オプション) 2,000×2,000

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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