有機EL試作用デバイス製造装置有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3-KVD-OLED Evo.3

有機EL試作用デバイス製造装置有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3
北野精機株式会社

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この製品について

■用途・有機EL材料開発
・高分子材料開発
・燐光材料開発
・有機薄膜太陽電池開発
・有機電子デバイス開発など

■特徴・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備
・蒸着室内で基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能
・基板とマスク間ギャップは最少
・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5％以内
・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない
・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い
・グローブボックスと接続可能
・導入室内には基板及びマスクホルダーが標準12枚ストック可能
・PLC制御にて自動搬送、自動排気が可能

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
有機EL試作用デバイス製造装置有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3

取扱企業
北野精機株式会社

カテゴリ

半導体製造

半導体製造装置

加工・工作機器

成膜装置

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有機EL試作用デバイス製造装置有機材料開発用成膜装置 KVD-OLED Evo.3 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	成膜室 (部屋数)	蒸着源 (元)	基板サイズ (inch)	膜厚分解能 (Å/s)	膜厚センサー冷却方式	有機材料共蒸着	面内分布 (%)	導入室ストッカー数 (段)	到達圧力 (Pa)	真空排気系	入力電源	自動排気	蒸着時の基板加熱	グローブボックス接続	装置のみ設置スペース (mm)
	KVD-OLED Evo.3	要見積もり	有機:1 有機金属共通:1	有機:8+6 金属:3元	2	0.0057Å/s (INFICON社CYGNUS使用)	水冷 (チラーより0.01℃まで制御可)	可 (独自のコントロール手法によりホスト1Å/s時ドープ混合率0.1~30wt%)	50mmにて有機膜±3%以内金属膜±5%以内	4×3 (列)	成膜室+その他：10^-6台導入室：10^-5台	成膜室：クライオポンプ導入室：ターボ分子ポンプドライポンプ (粗引きポンプ)	3φ200V150A	可 (オプション)	可 (オプション)	可 (オプション)	3,900×1,200