有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ-OED R&D SystemⅢ

有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ
北野精機株式会社

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この製品について

■蒸着室/特徴・超高真空蒸着
・小スペース、コンパクト設計
・蒸着セル最大9本取付可能
・基盤サイズ1～3インチと幅広く選択が可能
・コンタミを防ぐ2重シールド構造
・膜の均一性を図る回転プラットホーム機構
・蒸着中でのマスク交換が可能
・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備
・メンテナンス、クリーニングの簡単設計

■評価室/特徴・超高真空評価
・2対マルチプローブ端子構成
・2枚同時/同条件デバイス評価が可能
・オプションでQ-Massよるガス分析評価が可能
・寿命、輝度の簡単評価、測定

■ロードロック室・真空を破壊せず持ち出せるシャトルケース付
・簡単に基盤の出し入れできるハッチ機構

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ

取扱企業
北野精機株式会社

カテゴリ

半導体製造

半導体製造装置

加工・工作機器

成膜装置

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有機EL試作用デバイス製造装置 UHV対応型有機EL成膜・評価装置Ⅲ OED R&D SystemⅢ 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	有機セル	金属セル	基盤サイズ	排気ポンプ	真空計	膜厚計	シャッター	パージバルブ	300℃基盤加熱ヒーター	ホルダーストック	2対マルチプローブ
	OED R&D SystemⅢ	要見積もり	8式 (電源コントロール付)	1式 (電源コントロール付) (2元金属蒸着セル)	1~3インチ (最大4枚導入可能)	TMP (500L/sec) ：1台 (50L/sec) ：1台 SP (500L/min) ：2台 TMP (250L/sec) ：1台 (50L/sec) ：1台 SP (250L/min) ：1台	3式	2式	基盤側シャッター1式	2式	1式 (電源コントロール付)	5枚 (最大6枚)	1式