PSII方式マルチPVD成膜装置＜NPSシリーズ＞
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この製品について

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制御を容易にし、更に多層膜や複数の原料を使用してドーピング成膜をすることで、全く新しい特性のDLC膜も処理が可能。量産用生産機から開発を目的とした実験機と、あらゆる用途に適応します。

型番
この商品には3種類の型番があります

シリーズ
PSII方式マルチPVD成膜装置＜NPSシリーズ＞

取扱企業
ナノテック株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

成膜装置

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PSII方式マルチPVD成膜装置＜NPSシリーズ＞品番3件

フィルター

品番	価格 (税抜)	真空槽(mm) 500W×500W×600H φ800×650H φ1000×900H	有効エリア(mm) φ200×200L φ500×200L φ600×500L	基板ホルダー	搭載放電システム	到達圧力	排気速度	基板加熱機構	基板バイアス	装置制御	排気系	所要電力 3φ200V15kVA~ 3φ200V25kVA~ 3φ200V30kVA~	設置面積(Ｍ) 2.5W×3.0D×2.5H 3.0W×4.0D×2.5H 4.0W×4.0D×2.5H	冷却水	圧縮空気
NPS-500	要見積もり	500W×500W×600H	φ200×200L	自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)	・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源	6.7E-4Pa以下	6.7E-3Pa以下まで30分以内	オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)	MAX20kV500mA0.2~2kＨｚDUTY5~50％	レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く	ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ	3φ200V15kVA~	2.5W×3.0D×2.5H	3kgf/cm220~40L/min	6kgf/cm2以上
NPS-800	要見積もり	φ800×650H	φ500×200L	自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)	・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源	6.7E-4Pa以下	6.7E-3Pa以下まで30分以内	オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)	MAX20kV500mA0.2~2kＨｚDUTY5~50％	レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く	ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ	3φ200V25kVA~	3.0W×4.0D×2.5H	3kgf/cm220~40L/min	6kgf/cm2以上
NPS-1000	要見積もり	φ1000×900H	φ600×500L	自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)	・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源	6.7E-4Pa以下	6.7E-3Pa以下まで30分以内	オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)	MAX20kV500mA0.2~2kＨｚDUTY5~50％	レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く	ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ	3φ200V30kVA~	4.0W×4.0D×2.5H	3kgf/cm220~40L/min	6kgf/cm2以上