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PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-NPS-500
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-ナノテック株式会社

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>
ナノテック株式会社

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この製品について

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制御を容易にし、更に多層膜や複数の原料を使用してドーピング成膜をすることで、全く新しい特性のDLC膜も処理が可能。量産用生産機から開発を目的とした実験機と、あらゆる用途に適応します。

  • シリーズ

    PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>

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PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ> 品番3件

フィルター
商品画像 品番 価格 (税抜) 基板ホルダー 搭載放電システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 冷却水 圧縮空気
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-品番-NPS-500

NPS-500

要見積もり

500W×500W×600H

φ200×200L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX20kV500mA0.2~2kHzDUTY5~50%

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V15kVA~

2.5W×3.0D×2.5H

3kgf/cm220~40L/min

6kgf/cm2以上

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-品番-NPS-800

NPS-800

要見積もり

φ800×650H

φ500×200L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX20kV500mA0.2~2kHzDUTY5~50%

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V25kVA~

3.0W×4.0D×2.5H

3kgf/cm220~40L/min

6kgf/cm2以上

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-品番-NPS-1000

NPS-1000

要見積もり

φ1000×900H

φ600×500L

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

MAX20kV500mA0.2~2kHzDUTY5~50%

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

3φ200V30kVA~

4.0W×4.0D×2.5H

3kgf/cm220~40L/min

6kgf/cm2以上

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会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県
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