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ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200-LCND-200
ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200-株式会社片桐エンジニアリング

ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200
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    ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200

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ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) プラズマ源 チャンバー 基板ステージ ロードロックチャンバー 排気系 TMP 排気系 RP 排気系 ゲート弁 排気系 アングルバルブ ガス系 制御系
ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置 大面積ナノカーボン堆積装置 LCND-200-品番-LCND-200

LCND-200

要見積もり

RF 13.56 MHz・ 5 kW,
マルチホローCCPシャワーヘッド

SUS304、架台

800℃、8インチ基板×1枚

トランスファー含む

1,300L/sec、50L/sec

1,500L/min、90L/min

H36×W230、100A

40、25A

CH4、 H2、 Ar、MFCライン、N2バージ
圧空、流量、減圧井、局排ボックス、水素警報器

標準インターロック含む

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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  • 本社所在地: 神奈川県

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