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プラズマ生成とバイアス機能を備えた2周波エッチング装置 CCP型プラズマエッチング装置取扱企業
株式会社片桐エンジニアリングカテゴリ
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エッチング装置の製品52点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 外観寸法 (制御系・ガス系は除く) | プロセスチャンバー 材質 | プロセスチャンバー 寸法 | プロセスチャンバー 壁面ヒータ | プロセスチャンバー 対応基板サイズ | プロセスチャンバー 到達真空度 | 基板ステージ 冷却方式 | 基板ステージ 使用冷媒温度 | 基板ステージ 基板保持 | 基板ステージ RFバイアス | 上部電極 RF電源 | 上部電極 電極 | 上部電極 使用冷媒温度 | 真空排気系 真空ポンプ | 真空排気系 真空計 | 真空排気系 圧力制御 | 真空排気系 付属 | 制御系 インターロック | 制御系 電源操作盤 | チャンバー 材質 | チャンバー 対応基板サイズ | チャンバー 搬送系 | 排気系 真空ポンプ | 排気系 真空計 | 排気系 付属 | ガス供給系 系統数 | ガス供給系 その他 | チラーユニット 下部冷却 冷却能力 | チラーユニット 下部冷却 温度制御範囲 | チラーユニット 上部冷却 冷却能力 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
CCP型プラズマエッチング装置 |
要見積もり |
幅2,000mm×高さ2,000mm |
SUS304 |
φ300×H300mm |
常温~100℃ |
φ4インチ 1枚 |
10^-2 Pa台 |
冷媒循環及びHe |
-20~60℃ |
静電チャック |
2MHz 500W |
60MHz~ 1,000W |
冷却機能付きシャワーヘッド電極 |
20~60℃ |
TMP (800L/s) ＋ドライポンプ |
電離真空計 |
キャパシタンスマノメータ |
ゲートバルブ、高真空アングルバルブ、配管 等 |
有 |
PLC制御、タッチパネル方式 |
SUS304 |
φ4インチ 1枚 |
自動搬送 |
TMP (50L/s) ＋ロータリーポンプ |
電離真空計 |
高真空アングルバルブ、配管 等 |
プロセスガス、N2 パージ |
バルブ、配管 等 |
1,000W |
−20~200℃ |
500W |
エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
