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ICPプラズマ エッチング装置 SERIO-ICPプラズマ エッチング装置 SERIO
ICPプラズマ エッチング装置 SERIO-神港精機株式会社

ICPプラズマ エッチング装置 SERIO
神港精機株式会社



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この製品について

SERIO は高密度ICPプラズマソースを搭載した高密度プラズマエッチング装置です。独自開発プロセスにより、高い垂直性とエッチング表面の平滑性を実現しました。 電子分野からMEMS、ナノインプリント分野における高アスペクトエッチングに最適なシステム構成です。 製品の特長 ・高密度ICPプラズマソースによりスムースなエッチング面を実現した高密度エッチング装置 ・エッチング角度の制御性にも優れ、ナノインプリントのモールドの作製に最適 SWPの応用分野 ・半導体ウェハプロセス ・アッシング ・ハイレート=300mm ウェハにて2μm/min以上

  • シリーズ

    ICPプラズマ エッチング装置 SERIO

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使用用途: ナノ加工

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使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究

ウェハサイズ mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350

プラズマソース

CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波

圧力制御

APC制御 FAPC

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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  • 本社所在地: 兵庫県

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