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NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置-JPC-815-3SC型
NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置-日本電子工業株式会社

NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置
日本電子工業株式会社

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この製品について

低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜技術です。例えば、従来1000℃前後の高温化で行われていた窒化ケイ素やアルミナの析出温度をプラズマの持つ電気化学的エネルギーにより200～300℃程度まで引き下げることを可能にしています。 現在プラズマCVD法は、次世代の成膜技術として複雑形状の大型金型や量産小物部品などのセラミックコーティングをはじめとした表面改質、あるいは新素材の研究開発などに様々な産業分野からその可能性と実用化について期待されています。プラズマCVD装置は、豊富な経験を生かした確かなプラズマ制御技術、安定したガス制御法、そして多くのノウハウを応用したオプション機能を設定し、皆様のご要望にお応えします。

■NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置の特長

・特長1　複雑な形状をした立体へのコーティングができます。 ・特長2　複数のソースガスによる化合物の生成ができます。 (オプション仕様) ・特長3　直流・高周波両プラズマの同時使用による処理ができます。 (オプション仕様) ・特長4　プラズマ (イオン) 窒化処理やプラズマ浸炭処理からの連続処理ができます。 ・特長5　種々のオプション機構の組み合わせにより、ご予算に応じた高機能設備を選択できます。

  • シリーズ

    NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置

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NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 操作方法 電源入力［三相V-kVA］ 処理温度［℃］ 有効処理帯［径×高さmm］ 最大処理能力 (治具含む) ［㎡/kg］
NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置-品番-JPC-815-3SC型

JPC-815-3SC型

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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この商品の取り扱い会社情報

日本電子工業株式会社

会社概要

日本電子工業株式会社は、1957年に設立された表面処理加工メーカーです。 急加熱・急冷却により焼入れ硬化させる高周波焼入れや耐久性・加工性能向上のためのセラミックコーティングなどの表面加工のほか、短時間の表面焼入れがで...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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