CVD装置プラズマCVD装置
株式会社日本シード研究所

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■概要・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。
・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。
・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。
・ウエハサイズ 最大2インチ×1 (専用搬送トレイ) 
・ロードロック式、トランスファーロッド式搬送機構
・HV仕様 (1.0×10-3 Pa以下) 
・DCプラズマ

■特徴・試料交換室とトランスファーロッドを備えたロードロック式成膜装置です。
・輻射式の加熱機構を備え、基板温度を最高800℃で加熱制御します。
・成膜ステージはX軸移動式となっており、プラズマエリア中を移動させることが可能です。
・低温から高温、プラズマ範囲内での位置変更や連続移動を行うなどにより、様々な条件での成膜が行えます。
・最大2インチ基板対応の専用基板ホルダを付属します。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
CVD装置プラズマCVD装置

取扱企業
株式会社日本シード研究所

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマCVD装置

加工・工作機器

成膜装置

半導体製造

CVD装置

この商品に関する問題を報告する

最新の閲覧: 17時間前

無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

プラズマCVD装置注目ランキング

プラズマCVD装置の製品42点中、注目ランキング上位6点

PETボトル用プラズマCVD装置シングルボトルDLC成膜装置マニュアルローディング

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

660人以上が見ています

最新の閲覧: 47分前

真空直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

株式会社魁半導体

4.5 企業レビュー

500人以上が見ています

卓上型シランCVD成膜装置 EcoCoat (エココート)

ハイソル株式会社

490人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

470人以上が見ています

最新の閲覧: 47分前

PETボトル用プラズマCVD装置リニアタイプDLC成膜装置オートマチックローディング

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

470人以上が見ています

最新の閲覧: 47分前

薄膜形成装置プラズマCVD装置

神港精機株式会社

460人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

見積もりの使い方

プラズマCVD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

立体物に成膜可能立体物対応実験用プラズマCVD装置

株式会社DINOVAC

440人以上が見ています

最新の閲覧: 3分前

返答時間: 9.82時間

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

430人以上が見ています

返答時間: 23.09時間

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

アリオス株式会社

420人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

返答時間: 2.38時間

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

410人以上が見ています

返答時間: 23.09時間

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

390人以上が見ています

返答時間: 23.09時間

ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

370人以上が見ています

返答時間: 23.09時間

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

見積もりの使い方

CVD装置プラズマCVD装置品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	装置構成搬送系 (標準)	装置構成モジュール	真空槽プロセス室	到達圧力試料交換室 (標準)	到達圧力プロセス室 (標準)	真空槽	排気系主排気ポンプ	排気系補助ポンプ	排気系各種バルブ	真空計低真空	真空計高真空圧力制御	基板サイズ	反応性ガス	槽内アクセスアクセスドア	制御系主操作	機能 (例) 試料交換室	機能 (例) CVD室	オプション圧力制御	オプション水冷機構	ユーティリティ電力	ユーティリティ冷却水	ユーティリティプロセスガス	ユーティリティペントガス	ユーティリティ圧縮空気	ユーティリティ設置面積
	プラズマCVD装置	要見積もり	手動トランスファーロッド	試料交換室×1室プロセス室×1室	プラズマCVD室直流 (DC) プラズマ式	≦10Pa (プロセス室補助ポンプ共用)	≦1.0×10^ｰ3Pa	SUSチャンバ	試料交換室：油回転真空ポンププロセス室：ターボ分子ポンプ	油回転真空ポンプ (試料交換室主排気ポンプ共用)	PLC操作 (自動および手動)	ピラニ真空計	ワイドレンジ真空計	MAX2インチ (付属専用ホルダ) 不定形状可能	H2＋N2＋C2H4 (プロセス室構成例)	試料交換室：Oリングシールプロセス室：Oリングシール、アクセスフランジ	制御盤PLC操作	トランスファーロッド (ホルダ×1式積載)	成膜ステージ (X) 基板加熱 (常用600℃、MAX800℃)	絶対圧真空計	冷却水循環装置	3Φ AC200V 50/60Hz 30A (プロセス室構成例)	供給圧：0.2~0.3MPa 水温：20~28℃ 水量：≧6L/min (プロセス室構成例)	Ar、H2、N2 (プロセス室構成例)	窒素ガス 0.1~0.15MPa	0.5~0.8MPa	(W×D×H) ＝1.8m×0.8m×1.8m (プロセス室構成例)