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複合成膜装置 インライン式複合成膜装置取扱企業
株式会社日本シード研究所カテゴリ
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半導体製造装置の製品182点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 搬送系 (標準) | 装置構成 モジュール (標準) | 装置構成 プロセス室 (構成例) | 到達圧力 試料交換室 (標準) | 到達圧力 プロセス室 (標準) | 真空槽 | 排気系 主排気ポンプ | 排気系 補助ポンプ | 排気系 各種バルブ | 真空計 低真空 | 真空計 高真空 | 真空計 圧力制御 | 基板サイズ | 制御系 主操作 | 制御系 自動動作機能 | 機能 (例) 試料交換室 | 機能 (例) Co-sputter室 | 機能 (例) Multi-sputter室 | 機能 (例) 蒸着室 | 機能 (例) その他 | ユーティリティ 電力 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ プロセスガス | ユーティリティ ペントガス | ユーティリティ 圧縮空気 | ユーティリティ 設置面積 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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インライン式複合成膜装置 |
要見積もり |
手動トランスファーロッド |
試料交換室×1室 |
Co-sputter室 |
≦1.0×10^ー4Pa |
≦2.0×10^ー5Pa |
SUS製チャンバ |
試料交換室:ターボ分子ポンプ |
油圧回路真空ポンプorドライ真空ポンプ |
PLC操作 (自動および手動) |
ピラニ真空計 |
電離真空計 |
絶対圧真空計 |
MAX2インチ (付属専用ホルダ) |
制御盤PLC操作 |
排気系動作 |
ホルダラック (ホルダ×4式積載) |
スパッタアップ、スパッタ源×3 |
スパッタアップ |
抵抗加熱式蒸着源×3 (切替) |
ダウンストリーム自動圧力制御 |
3Φ AC200V 50/60Hz 150A (プロセス室構成例) |
供給圧:0.2~0.3MPa |
Ar、O2、N2 (プロセス室構成例) |
窒素ガス |
0.5~0.8MPa |
(W×D×H) =7.0m×4.0m×2.5m |
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260