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RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE-PlasmaPro 800 RIE
RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

■概要

PlasmaPro 800 RIE は、リアクティブイオンエッチング (RIE) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチや300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現します。 大型ウェハテーブルにより、製造レベルのバッチ処理および300mmウェハの取り扱いが可能になります。 化合物半導体、オプトエレクトロニクス、フォトニクスのアプリケーションにおいて、最大限のプロセス柔軟性を提供します。

■特徴

・高性能プロセス ・優れた基板温度制御 ・高精度のプロセス制御 ・実績のある、300mmシングルウェハの故障解析プロセス ・大型電極:低い所有コスト ・エッチング エンドポイント検出:信頼性・サービス性 ・レーザー干渉法および/または発光分光法によるエンドポイント検出:エッチング制御を強化するために装着することも可能 ・4-, 8- or 12-ライン ガスポッド オプション:プロセスやプロセスガスの柔軟性があり、通常のプロセスツールから離れたサービスエリアに設置することが可能 ・クローズカップル ターボポンプ:高いポンピングスピードと優れたベース圧 ・データロガー:チャンバーやプロセス条件のトレーサビリティや履歴の取得 ・液冷式または電熱式電極:優れた電極温度制御と安定性

  • シリーズ

    RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE

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2025年3月25日にレビュー済み

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RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE 品番1件

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PlasmaPro 800 RIE

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電源 V

単相200V 30A AC100V 30A AC100V 15A 単相100V 15A 単相100V 30A 200V 単相 20A

ガス系統 系統

1系統 2系統 3系統

ステージ寸法 mm

200mm 100mm 1000mm

処理圧力調整

バルブ 手動調整 APC制御

真空計

ピラニ真空計 ターボ分子ポンプ ロータリーポンプ WRG

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この商品の取り扱い会社情報

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5.0

会社概要

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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  • 本社所在地: 東京都

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