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RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE-PlasmaPro 800 RIE
RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE
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この製品について

■概要

PlasmaPro 800 RIE は、リアクティブイオンエッチング (RIE) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチや300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現します。 大型ウェハテーブルにより、製造レベルのバッチ処理および300mmウェハの取り扱いが可能になります。 化合物半導体、オプトエレクトロニクス、フォトニクスのアプリケーションにおいて、最大限のプロセス柔軟性を提供します。

■特徴

・高性能プロセス ・優れた基板温度制御 ・高精度のプロセス制御 ・実績のある、300mmシングルウェハの故障解析プロセス ・大型電極：低い所有コスト ・エッチング エンドポイント検出：信頼性・サービス性 ・レーザー干渉法および／または発光分光法によるエンドポイント検出：エッチング制御を強化するために装着することも可能 ・4-, 8- or 12-ライン ガスポッド オプション：プロセスやプロセスガスの柔軟性があり、通常のプロセスツールから離れたサービスエリアに設置することが可能 ・クローズカップル ターボポンプ：高いポンピングスピードと優れたベース圧 ・データロガー：チャンバーやプロセス条件のトレーサビリティや履歴の取得 ・液冷式または電熱式電極：優れた電極温度制御と安定性

  • シリーズ

    RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE

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RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE 品番1件

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会社概要

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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