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枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE-PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE
枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE
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この製品について

PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチングシステムです。GaN、サファイア、SiC などの高硬度材料のエッチングに必要な耐薬品性に特化して設計された PlasmaPro 100 Polaris では、最大 200 mm 径のウェハに対して高速かつ均一なエッチングを行うことができます。

■特徴

・アクティブ冷却電極：エッチングプロセス中のサンプル温度管理が可能 ・高出力 ICP ソース：高密度プラズマの生成 ・信頼性の高いハードウェアと保守性の高さ：優れた稼働率を実現 ・マグネット式スペーサー：イオンコントロールと均一性の向上 ・独自の静電クランプ技術：サファイア基板、 GaNが成膜されたサファイア基板やシリコン基板のクランプが可能 ・ヒーター付きチャンバーライナー：チャンバー内壁のデポジションを低減するために最適化 ・アドバンスト オートマッチング ユニット (AMU) ：高速で効率的かつ正確なマッチングが可能で、優れたプロセス再現性を実現

  • シリーズ

    枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE

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枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE 品番1件

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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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