DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE-PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE
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この製品について

PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシビリティが実現するように設計されています。MEMS (マイクロ電気機械システム) 、先進パッケージとナノテクノロジー市場において、多様な必要プロセス条件に対応できます。

PlasmaPro 100 Estrelasは、ボッシュおよび低温プロセスの対応により、究極的な柔軟性を発揮します。

■特徴・高速エッチングと Bosch (ボッシュ) プロセスを用いた高い選択性
・平滑な側壁を可能にするプロセス
・高異方性 (垂直方向) プロファイル
・ナノシリコンエッチングとノッチ制御のための低レート、低パワー (SOI) 
・傾斜ビアエッチング
・広範な応用分野
・機械式または静電式クランプ
・優れた再現性
・平均クリーニング間隔時間 (MTBC) の延長

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

取扱企業
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

エッチング装置

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DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	エッチング速度 (μm/min)	フォトレジスト選択性	プロファイル	アスペクト比	側壁	ARDE (アスペクト比依存エッチング) 制御	クリーニング	最小エッチング速度 /nm
	PlasmaPro 100 Estrelas DRIE	要見積もり	Bosch：高速 Cryogenic：中間混合ガス：低速	Bosch：非常に高い Cryogenic：高い混合ガス：低い	Bosch：垂直 Cryogenic：垂直または傾斜混合ガス：垂直または傾斜	Bosch：非常に高い Cryogenic：高い混合ガス：低い	Bosch：粗い Cryogenic：平滑混合ガス：平滑	Bosch：対応 Cryogenic：限定的混合ガス：限定的	Bosch：通常 Cryogenic：ほぼ不要混合ガス：通常	Bosch：≈ 300 Cryogenic：≈ 10 混合ガス：30