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低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム-PlasmaPro 100 ALE
低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム
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この製品について

■概要

PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になります。GaN HEMTアプリケーションのリセスエッチングやナノスケールのレイヤーエッチングなどのプロセス用に特別に設計されており、システムの一層毎またはサイクリックエッチングプロセスにより、低ダメージで平滑な表面が実現します。 ・一層毎またはサイクリックエッチングプロセス - ALD に相当するエッチング ・低ダメージ ・平滑なエッチング表面 ・優れたエッチング深さ制御 ・ナノスケールのレイヤーエッチングに最適 (2Dマテリアルなど) ・幅広いプロセス・アプリケーションに対応

■特徴

次世代半導体デバイスの実現に向け、薄膜化が進む中、より精密なプロセス制御による薄膜の形成・加工が求められています。PlasmaPro 100 ALEは、当社のCobra ICPプラットフォームに原子層エッチング用の特別なハードウェアを追加することにより、実現しました。 ・チャンバー内の均一な高伝導経路で反応種を基板に供給：低圧を維持したまま高ガス流を利用可能 ・高さ可変電極：プラズマの3次元的な特性を活かし、厚さ10mmまでの基板を最適な高さで保持 ・広温度範囲電極 (-150℃～＋400℃) を液体窒素や液循環式冷却器で冷却、または抵抗加熱器で加熱：オプションのブローアウト・液交換ユニットでモード切り替えを自動化可能 ・再循環型チラーユニットによる流体制御電極：優れた基板温度制御を実現 ・最適なガス供給が可能なRFシャワーヘッド：LF/RF スイッチングにより均一なプラズマ処理を実現し、膜応力を精密に制御 ・65mm、180mm、300mmのICPプラズマ源：200mmウェハまでプロセスの均一性を実現 ・高いポンプ能力：広いプロセス圧力ウィンドウを提供 ・He裏面冷却によるウェハクランプ：ウェハの最適な温度管理

  • シリーズ

    低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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