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御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置-御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置
御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置-株式会社エスクラフト

御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置
株式会社エスクラフト



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この製品について

■基盤対応クリーニング装置

本製品は、お客様の仕様に合わせてカスタマイズした製品の一例です。お客様の使用目的に合わせてカスタマイズ致します。BGA、CSPの分野での実装プロセスでは、O2プラズマによる基板表面改質によるアンダーフィル性の向上、又、Arプラズマによる接合性阻害物除去でのワイヤボンディング性の向上などに御利用頂けます。 本装置は、マガジンtoマガジンを基本とし、同時に吸着での搬送も可能となっておりますので多様な品種、搬送スタイルに対応している自動量産型の装置です。

■容易なプラズマモード切替

RIE (Reactive Ion Etching) ⇔DP (Direct Plasma) がコントロールパネル上の操作のみで切り替え可能です。

■高速追従性

小型の電力整合方式マッチャーを採用しており、プラズマ整合の高速化を実現しております。整合時間の短縮化により、プラズマ着火時における素子へのチャージアップダメージの低減を実現しております。

■多種多様なカスタマイズ性

基本的なプラットフォームを利用して御客様の様々な要求に応じた対応を致します。

■将来的な収束問題の解消

制御系にはシーケンサを使用しており、PCのモデルチェンジ等にありがちな収束問題も解消出来ます。 その他御客様の仕様に合わせた装置製作を行います。

  • シリーズ

    御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置

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御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置 品番1件

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御客様仕様カスタム製品プラズマクリーニング装置

要見積もり

フィルターから探す

半導体製造装置をフィルターから探すことができます

ウェハーサイズ mm

0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350

チップサイズ mm

0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35

基板サイズ mm

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

処理能力 秒/chip

0 - 1 1 - 2 2 - 31

ボンディング精度 μm

0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21

電源電圧 V

90 - 120 120 - 220 220 - 260

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ヒューグルエレクトロニクス株式会社は、1969年に半導体製造装置のワールドリーダーだったアメリカ・ヒューグルインダストリーズ社の極東支社として創立され、飛躍的に進化を続ける半導体およびLCDなどフラットパネルの世界で常に...

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  • 本社所在地: 東京都

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