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枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S-WLP-611S
枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S-株式会社エスクラフト

枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S
株式会社エスクラフト



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この製品について

WLPは多様化したアプリケーションに対応する為、RFパワーを下部電極に印加 (RIE方式) 又は、上部電極に印加 (DP方式) を実現しております。6~8インチのSi、Poly-Siなどのエッチングやポリミド系樹脂のエッチング及びフォトレジストのアッシングなど多種多様なプロセスに御利用頂けます。価格は低廉でありながら、搭載されたシーケンサにより各種エッチング条件の管理を行う事が出来る高性能でコストパフォーマンスに優れた装置です。

■容易なプラズマモード切替

RIE (Reactive Ion Etching) ⇔DP (Direct Plasma) がコントロールパネル上の操作のみで切り替え可能です。

■バリエーション

WLP-611S:ワーク変質防止、生産性アップ、ロードロックチャンバー/真空ロボット仕様。御客様の要求に応じて対応致します。

■高速追従性

小型の電力整合方式マッチャーを採用しており、プラズマ整合の高速化を実現しております。整合時間の短縮化により、プラズマ着火時における素子へのチャージアップダメージの低減を実現しております。

■省フットプリント

クリーンルーム占有面積WLP-600S、600 (W) ×1,500 (D) 。スルーザウォール対応にてクリーンルームの省スペース化を実現しております。

■多種多様なプロセスに対応

Si、Poly-Siなどのエッチングやポリミド系樹脂のエッチング、フォトレジストのアッシングなど様々な用途で御使用頂けます。 又、RIE (Reactive Ion Etching) ⇔DP (Direct Plasma) がコントロールパネル上の操作のみで切り替え可能な為、各レシピ内のステップ処理を利用する事で様々なプロセスが実現可能です。

■多種多様なカスタマイズ性

基本的なプラットフォームを利用して御客様の様々な要求に応じた対応を致します。

■将来的な収束問題の解消

制御系にはシーケンサを使用しており、PCのモデルチェンジ等にありがちな収束問題も解消出来ます。

  • シリーズ

    枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S

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枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理方式 処理室 RF電源 処理ガス パージガス スループット 処理ステップ ウエハーサイズ ウエハー搬送方式 本体寸法 本体重量
枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S-品番-WLP-611S

WLP-611S

要見積もり

平行平板プラズマ励起方式 (DP/RIE切替可)

AL製 (シングルチャンバー)

600~1,000W
13.56MHz オートチューニング

O2 1,000SCCM
CF4 500SCCM
1系統増設可 (オプション)

N2

3,000枚/400時間 (ポリイミド膜1μmエッチング時)

3ステップ,10レシピ

6インチ,8インチ兼用

垂直動作カセットエレベータ (6インチ,8インチ兼用)
水平・旋回動作1フィンガー吸着方式クリーンロボット

W600×D1,500×H1,850

650kg

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ヒューグルエレクトロニクス株式会社は、1969年に半導体製造装置のワールドリーダーだったアメリカ・ヒューグルインダストリーズ社の極東支社として創立され、飛躍的に進化を続ける半導体およびLCDなどフラットパネルの世界で常に...

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  • 本社所在地: 東京都
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