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ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B取扱企業
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | チャンバー材質/形状 | チャンバー構成 | 排気系 | 圧力調整 | 真空計 | 制御方式 | マイクロ波 | マイクロ波給電方式 | 温度測定 | ガス供給系 | 試料ホルダー サイズ | 基板加熱方式 | 基板サイズ (最大) | リーク量 | 本体架台 | 用力 電力 | 圧縮空気 | プロセスガス |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
DCVD-301B |
要見積もり |
1×10^-1Pa以下 |
Al製 特殊ドーム型チャンバー |
1チャンバー |
メカニカルブースターポンプ＋ドライポンプ＋ターボ分子ポンプ |
自動圧力制御器 (APC) |
ピラニ真空計＋フルレンジ真空計＋隔膜真空計 (APC用) |
タッチパネル (手動) |
0~3kW連続可変 (2.45GHz) ＋手動整合器 |
アンテナ給電式 (試料ステージ兼用) |
放射温度計 |
MFC5系統 (H2、CH4、N2、O2、Ar) 、最大7系統 |
φ27mm |
プラズマ加熱：MAX1,200℃、内部水冷 |
□5mm×7個 or φ1インチ×1個 |
1.0×10^-8Pa・m^3/s以下 (Oリング透過分を除く) |
キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 、重量約250kg |
［本体］AC200V 三相 30A ［チラー］AC200V 単相 15A ※DCVD-301B |
0.5MPa |
H2、CH4、N2、O2、Ar (1/4"Swagelok or 1/4"VCR) |
