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半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501) -D501
半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501) -株式会社渡辺商行

半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)
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試作・開発・小ロット生産向け NSG (SiO2) /BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式 (複数枚同時処理) APCVD装置 D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜 (SiO2膜) の成膜を目的とした、バッチ式 (複数枚同時処理) の常圧CVD装置 (APCVD装置) です。

■基本情報

大型トレーに複数枚ウェハをマニュアル装填し、トレーがディスパージョンヘッド (ガスノズル) 下を往復させ成膜を行います。常圧CVD (APCVD) の特色はそのまま、手軽に成膜が可能です。

■特徴

・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO (低ランニングコスト)

■ガス種

・SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ・TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2) (オプション) ・SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N2) (オプション)

■用途

・層間絶縁膜 (NSG/PSG/BPSG) ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜 (NSG) ・パッシベーション膜 (保護膜・絶縁膜) (NSG) ・太陽電池 (セル) 向け固相拡散用ソース膜 (BSG,PSG) /キャップ膜 (NSG)

■納入実績

・国内外半導体デバイス/オプトデバイスメーカー ・大学/研究機関

  • シリーズ

    半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)

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半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置サイズ (mm) 成膜温度
半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501) -品番-D501

D501

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1,200 (W) x 2,480 (D) x 1,940 (H)

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会社概要

株式会社渡辺商行は、輸出入の専門商社として1930年に創業しました。 その後、好不況の波を受けにくい体制を目指し、モノづくり商社として 1969年 トムコ設立、1971年 ワコム製作所設立、2008年 天谷製作所をグルー...

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  • 本社所在地: 東京都

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