太陽電池用PVD成膜装置 GENERIS PVD
株式会社メディア研究所

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この製品について

■概要数多くの真空スパッタリング装置が太陽電池製造産業で稼働しており、SINGULUSTECHNOLOGIES社は 水平基板輸送を備えたハイスループット インライン スパッタリングシステムプラットフォームとして GENERIS PVDを提供しています。GENERIS PVDは、高性能HJT太陽電池の製造に関する特定の要件に合わせて設計されています。GENERIS PVDは、ITO (インジウムスズ酸化物)  やAZO (アルミニウムドープ酸化亜鉛) などの 高度な透明導電性酸化物層 (TCO) に関して、 ヘテロ接合セル技術の主要な要件を理想的に 満たしています。

両面にコーティングを施すことにより、GENERIS PVDのプロセスチャンバーを介して自動的搬送されます。 スパッタリングシステムは、高い層の再現性、高い生産性、そして同時に非常に低い運用コスト (OPEX) で、 高レベルの層の厚さの均一性を保護します。

■機能・スパッタリング材料：ITO、AZO、Mo、Al、Cu、Ag、NiVなどの金属層
・典型的なアプリケーションには、反射防止層 バリア層、前駆体、金属層が含まれます
・複数の基板の並列処理
・4つのバージョンで利用可能：GENERIS LAB・GENERIS PVD3000約3,000 wph (M6) ・GENERIS PVD6800で約6,800 wph (M6) ・GENERIS PVD10000約10,000 wph (M6) 
・キャリア積載面積：1,400mm x 1,600 / 2,000mm
・通常のタクトタイム：キャリアあたり40〜75秒
・キャリアトレイを介した基板 (ディスプレイ、ガラス、Siウェーハなど) の並列処理
・キャリアトレイのロードおよびアンロードの高速自動化 (片面または両面) 
・トップダウンおよびボトムアップスパッタリング構成可能–真空破壊のない両面スパッタリング
・完全な基板温度制御
・回転可能な円筒形マグネトロン
・装置下部のキャリアリターン システム (CRS) 
・真空ベース圧力：‹1 x 10-6 mbar、通常のプロセス圧力：2-5 x10-3 mbar
・平面カソードのわずか30％と比較して、回転可能なカソードのターゲット使用率は約80％です。
・ノズルの形成が少ないため、回転可能なカソードでより安定したプロセス