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排気性能 到達圧力
≦6.65×10^ｰ4Pa
排気性能 排気時間
≦2.0×10^ｰ3Pa 20min以内
真空槽
SUS製チャンバ Φ700×1,600mm (H)
真空槽 試料サイズ
MaxΦ450×1,200mm (H)
排気系 主排気ポンプ
ターボ分子ポンプ (水冷)
排気系 補助ポンプ
油回転真空ポンプ オイルミストトラップ付属
排気系 トラッブ
クライオトラッブ
排気系 各種バルブ
PLC操作 (自動および手動)
真空計 低真空
クリスタル真空計
真空計 高真空
ゴールドカソード真空計
真空計 圧力制御
絶対圧真空計
槽内アクセス アクセスドア
Oリングシール
制御系 主操作
制御盤 PLC操作
制御系 自動動作機能
排気系動作 プロセス運転
機能 シャッター
自動 カゾード部
ユーティリティ 電力・接地
主電源系 3Φ AC200V 260A 50/60Hz
ユーティリティ 冷却水
供給圧：0.2~0.3MPa 水温：20~35℃ 水量：≧40L/min
ユーティリティ ペントガス
窒素ガス 0.1~0.15MPa
ユーティリティ 圧縮空気
0.5~0.8MPa
ユーティリティ 設置面積
(W×D×H) ＝3,000mm×2,400mm×2,300mm
型番
縦型スパッタ成膜装置シリーズ
スパッタ成膜装置 縦型スパッタ成膜装置取扱企業
株式会社日本シード研究所カテゴリ
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半導体製造装置の製品193点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 排気性能 到達圧力 | 排気性能 排気時間 | 真空槽 | 真空槽 試料サイズ | 排気系 主排気ポンプ | 排気系 補助ポンプ | 排気系 トラッブ | 排気系 各種バルブ | 真空計 低真空 | 真空計 高真空 | 真空計 圧力制御 | 槽内アクセス アクセスドア | 制御系 主操作 | 制御系 自動動作機能 | 機能 シャッター | ユーティリティ 電力・接地 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ ペントガス | ユーティリティ 圧縮空気 | ユーティリティ 設置面積 |
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要見積もり | ≦6.65×10^ｰ4Pa |
≦2.0×10^ｰ3Pa 20min以内 |
SUS製チャンバ Φ700×1,600mm (H) |
MaxΦ450×1,200mm (H) | ターボ分子ポンプ (水冷) |
油回転真空ポンプ オイルミストトラップ付属 |
クライオトラッブ | PLC操作 (自動および手動) | クリスタル真空計 | ゴールドカソード真空計 | 絶対圧真空計 | Oリングシール | 制御盤 PLC操作 |
排気系動作 プロセス運転 |
自動 カゾード部 |
主電源系 3Φ AC200V 260A 50/60Hz |
供給圧：0.2~0.3MPa 水温：20~35℃ 水量：≧40L/min |
窒素ガス 0.1~0.15MPa |
0.5~0.8MPa | (W×D×H) ＝3,000mm×2,400mm×2,300mm |
半導体製造装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
工程分類が成膜装置の製品
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測工程分類
成膜装置 リソグラフィ装置 エッチング装置搬送方式
バッチ式 シングル式 クラスター式 真空搬送式成膜方式
化学気相成長型 物理気相成長型 スピンコート型ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260
