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サイズ
最大φ12インチ
プラズマソース
CCP型
真空排気
低真空プロセス：MBP＋DP 高真空プロセス：TMP＋DP
圧力制御
APC制御
プロセスガス
F系、Cl2、Ar、O2、他
制御操作
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC
データロギング
外部メモリまたはPC
基板搬送
大気または真空搬送ロボット
型番
ドライエッチング装置シリーズ
2周波独立印加方式 ドライエッチング装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです
5.0
評判がとても良い
2024年12月12日にレビュー
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回返答までの時間・4.22時間| 商品画像 | 価格 (税抜) | サイズ | プラズマソース | 真空排気 | 圧力制御 | プロセスガス | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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|
要見積もり | 最大φ12インチ | CCP型 |
低真空プロセス：MBP＋DP 高真空プロセス：TMP＋DP |
APC制御 | F系、Cl2、Ar、O2、他 |
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 大気または真空搬送ロボット |
2周波独立印加方式、超低温冷却ステージ、静電チャックステージ、メカチャックステージ、発光分析システム、ガス検知器、シリンダーキャビネット など |
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エッチング装置の製品51点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
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エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
