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半導体フォトマスク用 レーザCVD欠陥修正装置 CRS400S/S+-株式会社エイチ・ティー・エル

全型番で同じ値の指標

対応マスクパターン

1.0 μm Line & Space

対応フォトマスクサイズ

5インチ~9インチ

この製品について

半導体、電子部品用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正を行う装置です。

■特長

・V-Technology/HTL 共同開発の半導体Middle/Low、電子部品用フォトマスク修正装置 ・長寿命LD励起固体レーザを使用し安定した白黒欠陥修正。 ・独自開発の光学系を使用。アパーチャビームによる高速大面積の欠陥修正とスポットビームによる微小欠陥の高精度修正を実現。 ・スルーペリクル対応 (ZAPのみ) ・高精度カラー表示による画像モニター ・各種欠陥検査機通信インターフェイス、データフォーマットに対応

  • 型番

    CRS400S/S+

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半導体フォトマスク用 レーザCVD欠陥修正装置 CRS400S/S+ CRS400S/S+の性能表

商品画像 価格 (税抜) 対応マスクパターン 対応フォトマスクサイズ
半導体フォトマスク用 レーザCVD欠陥修正装置 CRS400S/S+-品番-CRS400S/S+ 要見積もり 1.0 μm Line & Space 5インチ~9インチ

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使用用途

#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測

ウェハーサイズ mm

0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350

チップサイズ mm

0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35

基板サイズ mm

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

処理能力 秒/chip

0 - 1 1 - 2 2 - 31

ボンディング精度 μm

0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21

電源電圧 V

90 - 120 120 - 220 220 - 260

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社エイチ・ティー・エルは、半導体・液晶用関連装置を中心に、装置販売や装置用ソフトウエア開発を行う会社です。 1994年に東京都立川市で設立されました。プラズマ関連装置、光3Dプリンターなど各メーカー品の販売を行う...

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