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処理方式
平行平板プラズマ励起方式 (DP／RIE切替可)
処理室
アルミニウム (A5052) 製
ステージ段数
標準3ステージ (オプション 増設1ステージ対応可)
チャンバー寸法
幅500×奥580×高500mm
ステージ寸法
幅340×奥420mm
RF電源
600W 13.56MHz オートチューニング
処理ガス
O2、Ar (オプション 1ライン増設可) マスフローコントローラによる流量制御
パージガス
N2 (スローライン有)
処理ステップ
10レシピ (3ステップ)
真空ポンプ
ロータリーポンプ 1,300L/min
本体寸法
幅880×奥880×高1,600mm
本体重量
約400kg
型番
PT-655S取扱企業
株式会社エスクラフトカテゴリ
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半導体製造装置の製品171点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 処理方式 | 処理室 | ステージ段数 | チャンバー寸法 | ステージ寸法 | RF電源 | 処理ガス | パージガス | 処理ステップ | 真空ポンプ | 本体寸法 | 本体重量 |
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要見積もり | 平行平板プラズマ励起方式 (DP／RIE切替可) | アルミニウム (A5052) 製 | 標準3ステージ (オプション 増設1ステージ対応可) | 幅500×奥580×高500mm | 幅340×奥420mm |
600W 13.56MHz オートチューニング |
O2、Ar (オプション 1ライン増設可) マスフローコントローラによる流量制御 |
N2 (スローライン有) | 10レシピ (3ステップ) | ロータリーポンプ 1,300L/min | 幅880×奥880×高1,600mm | 約400kg |
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使用用途が洗浄の製品
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 1 - 2 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260
