テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。

■用途・PTFE  (テフロン)  の親水化  (要NH3)  

・各種素材の撥水処理  (要CF4)  

・シリコン膜  (基板)  のエッチング処理  (要CF4)  

・ガラス膜  (基板)  の形成  (要バブラー)  

・細胞培養容器への処理〈特徴〉

・制御条件を全てマニュアル操作仕様
→プラズマ装置の扱いに慣れた研究者には打って付け

・生産現場での製造工程に組み込み可能
→既存の設備と合わせての使用が可能となる為、コストや時間、製造効率もUP

・シンプルで導入コストを抑えた価格帯
→企業努力により低価格化した製品販売を実現

型番
CPE-100B

シリーズ
真空プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ

取扱企業
株式会社魁半導体

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマエッチング装置

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真空プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ CPE-100Bの性能表

商品画像	価格 (税抜)	外形寸法	ステージ寸法	処理圧力調整	真空計	ガス系統	電源
	要見積もり	392mm (W) ×500mm (D) ×1,050mm (H) (突起含まず。上蓋閉時) 、850mm (W) ×900mm (D) ×1,050mm (H) (突起含まず。上蓋閉時)	直径100mm, 直径400mm	手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整	アナログ表示ピラニ真空計	1系統	単相100V,15A (50Hz/60Hz) 型式 CPE-400B、単相100V,30A (50Hz/60Hz)