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返答率
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返答時間
2.2時間
到達真空度
1×10^-1Pa以下
チャンバー材質/形状
Al製 特殊ドーム型チャンバー
チャンバー構成
1チャンバー
排気系
メカニカルブースターポンプ＋ドライポンプ＋ターボ分子ポンプ
圧力調整
自動圧力制御器 (APC)
真空計
ピラニ真空計＋フルレンジ真空計＋隔膜真空計 (APC用)
制御方式
タッチパネル (手動)
マイクロ波
0~3kW連続可変 (2.45GHz) ＋手動整合器
マイクロ波給電方式
アンテナ給電式 (試料ステージ兼用)
温度測定
放射温度計
ガス供給系
MFC5系統 (H2、CH4、N2、O2、Ar) 、最大7系統
試料ホルダー サイズ
φ27mm
基板加熱方式
プラズマ加熱：MAX1,200℃、内部水冷
基板サイズ (最大)
□5mm×7個 or φ1インチ×1個
リーク量
1.0×10^-8Pa・m^3/s以下 (Oリング透過分を除く)
本体架台
キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 、重量約250kg
用力 電力
［本体］AC200V 三相 30A ［チラー］AC200V 単相 15A ※DCVD-301B
圧縮空気
0.5MPa
プロセスガス
H2、CH4、N2、O2、Ar (1/4"Swagelok or 1/4"VCR)
型番
DCVD-301B取扱企業
アリオス株式会社カテゴリ
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プラズマCVD装置の製品41点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | チャンバー材質/形状 | チャンバー構成 | 排気系 | 圧力調整 | 真空計 | 制御方式 | マイクロ波 | マイクロ波給電方式 | 温度測定 | ガス供給系 | 試料ホルダー サイズ | 基板加熱方式 | 基板サイズ (最大) | リーク量 | 本体架台 | 用力 電力 | 圧縮空気 | プロセスガス |
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要見積もり | 1×10^-1Pa以下 | Al製 特殊ドーム型チャンバー | 1チャンバー | メカニカルブースターポンプ＋ドライポンプ＋ターボ分子ポンプ | 自動圧力制御器 (APC) | ピラニ真空計＋フルレンジ真空計＋隔膜真空計 (APC用) | タッチパネル (手動) | 0~3kW連続可変 (2.45GHz) ＋手動整合器 | アンテナ給電式 (試料ステージ兼用) | 放射温度計 | MFC5系統 (H2、CH4、N2、O2、Ar) 、最大7系統 | φ27mm | プラズマ加熱：MAX1,200℃、内部水冷 | □5mm×7個 or φ1インチ×1個 | 1.0×10^-8Pa・m^3/s以下 (Oリング透過分を除く) | キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 、重量約250kg | ［本体］AC200V 三相 30A ［チラー］AC200V 単相 15A ※DCVD-301B | 0.5MPa | H2、CH4、N2、O2、Ar (1/4"Swagelok or 1/4"VCR) |
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