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装置構成
カセット室／オートローダー 搬送室 エッチング室 予備加熱室 (オプション) 前後処理室 (オプション)
処理可能基板サイズ
6・8インチ
膜種
強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など
面内均一性
±5%以下
プラズマソース
ISM (有磁場ICP)
基板電極温度
~400℃±5℃
デポジション対策
ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等
プロセスレシピ編集方式
マルチステップ方式
型番
ULHITETM NE-7800H取扱企業
アルバック販売株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年8月7日にレビュー済み
顧客対応への満足度
フォームを経由し、非常にわかりやすくスムーズなお問い合わせのご対応をいただけました。誠にありがとうございます。
初回対応までの時間への満足度
1.11時間
Metoree経由で見積もり
2025年7月28日にレビュー済み
顧客対応への満足度
返信までのタイムラグがありましたが，返信内容は丁寧でした。
初回対応までの時間への満足度
69.57時間
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エッチング装置の製品48点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 装置構成 | 処理可能基板サイズ | 膜種 | 面内均一性 | プラズマソース | 基板電極温度 | デポジション対策 | プロセスレシピ編集方式 |
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要見積もり |
カセット室／オートローダー 搬送室 エッチング室 予備加熱室 (オプション) 前後処理室 (オプション) |
6・8インチ | 強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など | ±5%以下 | ISM (有磁場ICP) | ~400℃±5℃ | ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等 | マルチステップ方式 |
エッチング装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
プラズマソースがICPの製品
エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
