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高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H-アルバック販売株式会社

アルバック販売株式会社の対応状況

返答率

100.0%

返答時間

385.4時間

全型番で同じ値の指標

装置構成

カセット室/オートローダー 搬送室 エッチング室 予備加熱室 (オプション) 前後処理室 (オプション)

処理可能基板サイズ

6・8インチ

膜種

強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など

面内均一性

±5%以下

プラズマソース

ISM (有磁場ICP)

基板電極温度

~400℃±5℃

デポジション対策

ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等

プロセスレシピ編集方式

マルチステップ方式

この製品について

■概要

高密度プラズマドライエッチング装置ULHITETM NE-7800HはFeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料 (強誘電体、貴金属、磁性膜等) のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。

■用途

FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.

■特長

・有磁場ICP (ISM) 方式-低圧・高密度プラズマによる不揮発性材料加工専用機 ・常温から高温 (400℃) 対応の積層膜一括エッチング、及びハードマスク除去までのエッチングソリューションを提供。 ・チャンバーから排気ライン、DRPまで均一加熱によるデポ対策。 ・メンテクリーニング費用やパーティクル発生を抑えた構造や材料、加熱機構等、不揮発性材料エッチングに豊富な経験を持つ量産装置。 ・長期の再現性・安定性を実現。

  • 型番

    ULHITETM NE-7800H

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高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H ULHITETM NE-7800Hの性能表

商品画像 価格 (税抜) 装置構成 処理可能基板サイズ 膜種 面内均一性 プラズマソース 基板電極温度 デポジション対策 プロセスレシピ編集方式
高密度プラズマドライエッチング装置 ULHITETM NE-7800H-品番-ULHITETM NE-7800H 要見積もり カセット室/オートローダー
搬送室
エッチング室
予備加熱室 (オプション)
前後処理室 (オプション)
6・8インチ 強誘電・高誘電材料、磁性材料、電極材料など ±5%以下 ISM (有磁場ICP) ~400℃±5℃ ファラーデーシールド機構/天板加熱機構/防着板加熱機構等 マルチステップ方式

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プラズマソース

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圧力制御

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

385.4時間

会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都

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