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返答時間
19.4時間
有機セル
2式 (電源コントロール付)
金属セル
2式 (電源コントロール付)
基盤サイズ
1~3インチ (最大8枚導入可能)
排気ポンプ
TMP (63L/sec) :1台 TMP (300L/sec) :2台 RP (150L/sec) :3台
真空計
3式
膜厚計
2式
シャッター
基盤側シャッター1式
パージバルブ
2式
300℃基盤加熱ヒーター
1式 (電源コントロール付)
型番
OED R&D SystemⅡ取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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半導体製造装置の製品183点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 価格 (税抜) | 有機セル | 金属セル | 基盤サイズ | 排気ポンプ | 真空計 | 膜厚計 | シャッター | パージバルブ | 300℃基盤加熱ヒーター |
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要見積もり | 2式 (電源コントロール付) | 2式 (電源コントロール付) | 1~3インチ (最大8枚導入可能) |
TMP (63L/sec) :1台 TMP (300L/sec) :2台 RP (150L/sec) :3台 |
3式 | 2式 | 基盤側シャッター1式 | 2式 | 1式 (電源コントロール付) |
半導体製造装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が成膜の製品
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 1 - 2 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260返答率
100.0%
返答時間
19.4時間