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返答率
100.0%
返答時間
29.2時間
適合クリーンルーム
Class 10
チャンバー内クリーン度
Class 1
動作温度
室温 – 450℃ (オプション550℃)
キャパシティ (25枚/カセット)
8″ ウェハ 2カセット
N2流量 (消費量)
1 SCFM (15-25 liters/min)
チャンバー内部寸法 (約) ID x D
37×66.5cm
プロセスエリア寸法 (約) W×D×H
24×46×25cm
外形寸法 (約) W×D×H
69×146×78cm
制御ユニット寸法 (約) W×D×H
59×96×24 cm
チャンバー材質
SUS 316L
プロセスガス入力
標準 1系統 (オプション3系統)
マスフローコントローラ
オプション (最大3系統付与可能)
レシピ数
8
ステップ数
16
設定時間
0–99時間
時間設定分解能
1分
温度均一性 (25枚/カセット)
±5℃
平均加熱レート (150-450℃)
7.5℃/分
平均冷却レート (450-150℃)
4.5℃/分
酸素濃度
10 ppm以下 オプション:酸素濃度計
電源電圧
三相 208V 40A 50/60Hz
重量 (約)
261 kg
型番
450PB8-2P-CP取扱企業
ハイソル株式会社カテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 適合クリーンルーム | チャンバー内クリーン度 | 動作温度 | キャパシティ (25枚/カセット) | N2流量 (消費量) | チャンバー内部寸法 (約) ID x D | プロセスエリア寸法 (約) W×D×H | 外形寸法 (約) W×D×H | 制御ユニット寸法 (約) W×D×H | チャンバー材質 | プロセスガス入力 | マスフローコントローラ | レシピ数 | ステップ数 | 設定時間 | 時間設定分解能 | 温度均一性 (25枚/カセット) | 平均加熱レート (150-450℃) | 平均冷却レート (450-150℃) | 酸素濃度 | 電源電圧 | 重量 (約) |
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要見積もり | Class 10 | Class 1 | 室温 – 450℃ (オプション550℃) |
8″ ウェハ 2カセット |
1 SCFM (15-25 liters/min) | 37×66.5cm | 24×46×25cm | 69×146×78cm | 59×96×24 cm | SUS 316L | 標準 1系統 (オプション3系統) | オプション (最大3系統付与可能) | 8 | 16 | 0–99時間 | 1分 | ±5℃ | 7.5℃/分 | 4.5℃/分 |
10 ppm以下 オプション:酸素濃度計 |
三相 208V 40A 50/60Hz | 261 kg |
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使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測工程分類
成膜装置 リソグラフィ装置 エッチング装置搬送方式
バッチ式 シングル式 クラスター式 真空搬送式成膜方式
化学気相成長型 物理気相成長型 スピンコート型ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260