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SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...
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■特徴 ・6インチまで対応 ・高温成長可能 (MAX2,200℃) ・急速昇温可能 (1,000℃→2,000℃まで1分以内) ・カーボンフリー ・超高真空仕様 ...
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装置の構成上、蒸発源を横置きしたい場合に適しています。
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離れたチャンバ間のサンプル輸送を超高真空を保持した状態で行うことが可能です。 ◼︎特長 ・乾電池駆動可能な小型イオンポンプを装備し...
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SVシリーズは、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用しています。GaAs系・InP系材料におい...
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SHシリーズは、窒化物半導体用として特別に開発された横型ステンレス製リアクタを採用しています。シミュレーション技術により設計され...
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RHEEDスクリーン用の暗箱です。CCDカメラやデジタルカメラの取付が可能です。
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■特長 ・他社製MBE装置にも取り付けられるコンパチブルタイプ。 ・放出ガス及び不純物の低減を考慮した材料を選択しています。 ・真空ベ...
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装置取付ポートがICF114の時、シャッター無ICF70サイズのKセルに、シャッター機構を付加することができます。
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■特長 ・他社製MBE装置にも取り付けられるコンパチブルタイプ。 ・放出ガス及び不純物の低減を考慮した材料を選択しています。 ・真空ベ...
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■特長 ・他社製MBE装置にも取り付けられるコンパチブルタイプ。 ・放出ガス及び不純物の低減を考慮した材料を選択しています。 ・真空ベ...
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装置の構成上、蒸発源を横置きしたい場合に適しています。
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高融点金属の蒸発源として最適な高温Kセルです。2,000℃までの加熱が可能です。
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原料を急速昇降温法で蒸発・昇華させ、分子線を発生させます。
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特別に原料ビームを絞って使用したい場合に適しています。
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一つのポートで、固体原料とガス原料を供給できる蒸発源です。
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導入された各種ガス原料を、蒸発・昇華させて分子線を発生させます。
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3次元熱流体解析 (CFD) ソフトを用いて、お客様の実験をお手伝い致します。お持ちのCAD・印刷図面等資料から3D解析モデルを作成し、シミ...
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さまざまな用途に応じたカスタムメイドの高温真空ベーキング装置の設計・製作が可能です。
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面発光レーザー (VCSEL) 量産のためのキープロセスである電流狭窄層作製装置です。販売から15年以上の実績を誇り、多くのお客様に高評価...
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郵便番号 | 〒601-8142 |
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本社住所 | 京都府京都市南区上鳥羽中河原51 |
創業年 | 2000年 |
資本金 | 30,000,000円 |
法人番号 | 4130001031630 |
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