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オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマエッチング装置

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10 点の製品

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

低ダメージで平滑な表面が実現 PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

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■概要 PlasmaPro 100 ALE原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になります。GaN HEMTアプリ...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なエッチングレートを実現 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE エッチングシステム

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■概要 PlasmaPro 100 Cobra ICP RIEシステムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセスモジュールは、GaAs...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

DRIEアプリケーション用プラットフォーム PlasmaPro 100 Estrelas DRIE

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PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープ リアクティブイオン エッチング (DRIE) アプリケーション用に、総合的なフレキシビリティが実現するよ...


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枚葉式ICP RIEエッチング装置 PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE

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PlasmaPro 100 Polaris は、高い競争力を維持するために必要なエッチング性能により、スマートなソリューションを提供する枚葉式エッチングシステムです。GaN...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチング PlasmaPro 100 RIE

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PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様に適しており、ロード...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供 PlasmaPro 80 ICP RIE

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■概要 ・PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供するシステムです...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

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PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

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■概要 PlasmaPro 80 リアクティブイオンエッチング (RIE) は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

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PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積か...


オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

RIEプロセスの柔軟なソリューションをコンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現 PlasmaPro 800 RIE

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■概要 PlasmaPro 800 RIE は、リアクティブイオンエッチング (RIE) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチや300mmウェハにおいて、コンパク...


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オックスフォード・インストゥルメンツのプラズマエッチング装置10製品中の注目ランキング

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