項目別

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150

使用用途

半導体製造表面改質機能性材料研究

アリオスの成膜装置

企業: アリオス使用用途: 半導体製造

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アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

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