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項目別

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150

アリオスの成膜装置

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2 点の製品

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しま...


アリオス株式会社

スパッタ装置

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■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...


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