アリオスの成膜装置
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アリオス株式会社
ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B
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■概要 本装置は、ダイヤモンド生産用のマイクロ波プラズマCVD装置です。当社独自のプラズマ技術を駆使し、大面積かつ高速成長を実現しました。生産機ニーズに...
アリオス株式会社
ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ
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最新の閲覧: 1日前
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■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択することにより、幅広いニ...
アリオス株式会社
小型スパッタ装置 SS-DC RF301
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■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒...
アリオス株式会社
プラズマCVD実験装置 PCVD-R100
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■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分で成膜することを指し...
アリオス株式会社
スパッタ装置
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■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較的大きなエネルギーを...
アリオス株式会社
粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置
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■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの回転運動により試料を...
