ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。■用途
・パワーデバイス ・LED、LD、高速デバイス等の化合物関連 ・有機EL開発 ・太陽電池開発 ・MEMS■特長
・27.12MHzの高密プラズマプロセス ・SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：SiO2膜の対応可能 ・CF4+O2プラズマによるチャンバークリーニング可能 ・有機EL向けの低温成膜用ヒーター対応可能 ・トレー搬送で多様な基板サイズに対応 ・真空ボックスによりCシリーズ間での間接連続プロセス可能 (Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)-
シリーズ
ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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カテゴリ
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ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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CC-200/400 |
要見積もり |
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