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ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400-CC-200/400
ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400-アルバック販売株式会社

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■概要

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

■用途

・パワーデバイス ・LED、LD、高速デバイス等の化合物関連 ・有機EL開発 ・太陽電池開発 ・MEMS

■特長

・27.12MHzの高密プラズマプロセス ・SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：SiO2膜の対応可能 ・CF4+O2プラズマによるチャンバークリーニング可能 ・有機EL向けの低温成膜用ヒーター対応可能 ・トレー搬送で多様な基板サイズに対応 ・真空ボックスによりCシリーズ間での間接連続プロセス可能 (Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)

  • シリーズ

    ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400

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ロードロック式プラズマCVD装置 CC-200/400 品番1件

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