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この製品について

レーザー描画によるパターン成膜が可能

■概要

・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガスなど) の導入・排出機能を有する試料チャンバーを設置、その中に基板を置く。 ・レーザー光は上から、チャンバーの透明ガラスを通って、基板に照射し、平面内でスキャンしながら、お好みのパターン内に選択的にCVD成膜ができる ・ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。

  • シリーズ

    CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser

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CVD装置 レーザーアシストCVD装置 MPCVD-Laser 品番1件

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

プラズマ励起方式

容量結合型 誘導結合型 マイクロ波型 パルス電源型

反応場構成

リモート型 平行平板型 シャワーヘッド型 チャンバー分割型

基板処理方式

枚葉式 バッチ式 インライン連続式 立体部品支持式

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社マイクロフェーズ

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会社概要

株式会社マイクロフェーズは、カーボンナノチューブ、ナノ材料、ナノテクノロジーの分野の研究開発と、これらを使った事業の支援を行う会社です。 1999年に設立して、2002年に筑波大学発ベンチャーとして認定されました。さま...

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  • 本社所在地: 茨城県

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