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この製品について

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進

■概要

・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン化を促進し、熱CVDゾーンでの反応効率を上げる。 ・ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。

  • シリーズ

    CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma

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CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma 品番1件

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MPCVD-Plasma

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社マイクロフェーズ

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会社概要

株式会社マイクロフェーズは、カーボンナノチューブ、ナノ材料、ナノテクノロジーの分野の研究開発と、これらを使った事業の支援を行う会社です。 1999年に設立して、2002年に筑波大学発ベンチャーとして認定されました。さま...

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