CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma
株式会社マイクロフェーズ
株式会社マイクロフェーズの対応状況
返答率
100.0%
この製品について
■概要
・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン化を促進し、熱CVDゾーンでの反応効率を上げる。 ・ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。-
シリーズ
CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma
-
取扱企業
株式会社マイクロフェーズ
-
カテゴリ
プラズマCVD装置注目ランキング
もっと見る
プラズマCVD装置の製品18点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
まとめて見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%以上
96%以上の方が返答を受け取っています
プラズマCVD装置注目ランキング (対応の早い企業)
平均返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
170人以上が見ています
平均返答時間: 22.01時間
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
まとめて見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%以上
96%以上の方が返答を受け取っています
CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
|---|---|---|
|
|
MPCVD-Plasma |
要見積もり |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
