PECプロセス装置 PEC-6
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この製品について

GaNウェハ低ダメージエッチング装置

■光源 波長UVA UVC選択可能

■加熱機能エッチング溶液加熱により高速な深堀エッチング可能

■自動運転タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定

■特徴・10mm□小片チップからφ6インチウェハ
・GaN 低ダメージエッチングが可能
・シンプル構造で低価格を実現

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
PECプロセス装置 PEC-6

取扱企業
株式会社三明

カテゴリ

加工・工作機器

エッチング装置

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PECプロセス装置 PEC-6 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	エッチング方式	適応ワーク	UVA光源	UVC光源	薬液供給	外形寸法
	PEC-6	要見積もり	Photo-Electro Chemical:光電気化学	□10mm小片チップ、φ2~6インチ	超高圧水銀灯 315~400nm 15mW/sm2以上	プラズマ光源 220~320nm 12mW/sm2以上	2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液	1,470 (H) ×650 (W) ×750 (D)