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大型基板用PECVD COPRA Linear Sources-COPRA Linear
大型基板用PECVD COPRA Linear Sources-XQ Instruments

大型基板用PECVD COPRA Linear Sources
XQ Instruments

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この製品について

■特徴

・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1ｘ10-4から1ｘ10-1 mbarと広い為、スパッタ装置との融合が行いやすい ・基板幅、3m級の大型基板への適用が可能な為、建築 (Low-E) 、FPD、太陽電池で採用多数 ・10nm/秒レベルまでの高速成膜が可能

■適用例

・光学膜：光学多層膜、スパッタリングや電子銃成膜のアシスト ・太陽電池：反射防止膜、保護膜、吸収層、バリヤ膜 ・ディスプレイ：OLED有機層封止膜、透明電極膜、透明保護膜 ・ハードディスク：TMRバリヤ、カーボン保護膜 ・半導体：ケミカルエッチング、物理的エッチング ・大型基板：機能性酸化膜、バリヤ膜 ・ハードコート及び装飾膜：DLC、酸化膜、窒化膜 ・パッケージング：ロールトゥーロールでのフィルム基板へのバリヤ膜

  • シリーズ

    大型基板用PECVD COPRA Linear Sources

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大型基板用PECVD COPRA Linear Sources 品番1件

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XQ Instrumentsは、半自動プロセス向けの革新的で特許取得済みの機器を開発し製造しています。 主にライフサイエンス/化学研究室、食品・飲料、産業、テスト、およびブティック製造アプリケーション向けの粉末ディ...

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