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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | チャンバー | 基板サイズ | 薬液圧送 | 薬液吐出 | ステップ数 | プログラムモード | プロセス (標準) | 使用薬液 | 回転数 | インターロック | 電源 | 寸法 (mm/ドア開放時) | 重量 | 主要オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
ED-1200 |
要見積もり |
PVC (塩ビ) 製 |
φ1インチ~φ6インチ (150×150mm) |
内蔵ポンプ使用 |
スプレー吐出 (スイングノズル式) |
96ステップ (スキップ・コピー機能付) |
10モード |
エッチング液:1系統、リンス:1系統、バックリンス:1系統 |
酸系エッチング液 |
0~3,000rpm |
真空吸着確認センサー、処理室カバーインターロック、ノズル移動オーバーランリミッター |
AC100V 4A |
550W×440H (740H) ×400D |
33kg |
薬液温度管理システム (加圧方式) 、各種基板ホルダー、設置用作業台、PTFE (テフロン) 製チャンバー |
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エッチング装置の製品51点中、注目ランキング上位6点
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エッチング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究エッチング方式
ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型プラズマ生成方式
高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型搬送方式
バッチ式 シングルウェハ式対象材料
シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型ウェハサイズ mm
50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350プラズマソース
CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波圧力制御
APC制御 FAPC
