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プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD-PlasmaPro 800 PECVD
プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD
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この製品について

PlasmaPro 800は、プラズマ励起化学気相堆積 (PECVD) プロセスの柔軟なソリューションを、大きなウェハバッチと300mmウェハにおいて、コンパクトな専有面積かつオープンロードシステムで実現します。 直径460 mmのテーブルを装備し、300 mmのフルサイズまたは43 x 50 mm (2”) の大きなバッチに対応します。フル製造ソリューションを実現するとともに、市場をリードする実績のある製品です。

■特徴

・高性能プロセス ・優れた基板温度制御 ・高精度のプロセス制御 ・実績のある、300 mmシングルウェハ故障解析プロセス オプション

■PlasmaPro 800 PECVD

・高性能な均質絶縁体薄膜の製造するように設計されています。 ・選択可能または高低周波数混合プラズマ電源により、PECVDにおける応力制御が可能であり、デポジション膜を引張圧縮または低応力に対して調整することができます。

■PlasmaPro 800 RIE

業界を通して広くご利用いただいており、実績を持つドライエッチング技術です。

  • シリーズ

    プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

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