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プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-FlexAL ALD
プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバーを用いたプリカーサー、プロセスガス、ハードウェア構成に高い柔軟性

■特徴

・一つのデポジションチャンバー内で熱ALDと、リモートプラズマによる低ダメージのプラズマALDの併用が可能 ・薄膜特性をコントロールするRF電極オプション ・製造プロセスに最適なカセット方式のハンドリングにより、高いスループットが実現 ・プリカーサー、プロセスガス、ハードウェア、オプションの選択にも、高い柔軟性 ・低ダメージで高品質な 基板を維持するために最適化 ・交換可能なライナーにより、チャンバーのメンテナンスが容易 ・温度変化の影響が大きい表面に対しても、高品質な薄膜を実現する低温デポジション

■機能

・エリプソメトリーなどのin-situ分析装置を統合するためのチャンバーポートおよびウィンドウ ・200mmまでの基板を搭載できる自動枚葉式ロードロック ・チャンバー間の真空搬送を行うプロセスモジュールを追加してクラスタ化が可能 ・プリカーサー交換の手順をチェックリスト付きでモニターに表示 ・スルーザウォール構造でクリーンルームインターフェースが利用可能 ・オゾン発生器の組み込みが可能 ・幅広い電極オプション-グラウンド電極とバイアス電極 ・水分に影響を受けやすい窒化物や金属に有効なターボ分子ポンプ ・導電性、結晶性、応力制御など、膜の特性を向上させるRFテーブルバイアスオプション

  • シリーズ

    プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム

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プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ウェハサイズ プラズマ源発生装置 温度範囲 プリカーサ クラスター化可能モジュール
プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-品番-FlexAL ALD

FlexAL ALD

要見積もり

最大200mm

300Wまたは600W

30~550 ℃​ (テーブルバイアス使用)

研究用 (100g まで) 、製造用 (500g まで) のプリカーサオプション 金属液体または固体のラピッドバブリングプリカーサーを最大8個まで使用可能 最大10個のプラズマおよび熱ガスプリカーサ...

PECVD、ICPCVD、RIE、スパッタリングモジュール

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会社概要

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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  • 本社所在地: 東京都
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