プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-FlexAL ALD

プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

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この製品について

FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバーを用いたプリカーサー、プロセスガス、ハードウェア構成に高い柔軟性

■特徴・一つのデポジションチャンバー内で熱ALDと、リモートプラズマによる低ダメージのプラズマALDの併用が可能
・薄膜特性をコントロールするRF電極オプション
・製造プロセスに最適なカセット方式のハンドリングにより、高いスループットが実現
・プリカーサー、プロセスガス、ハードウェア、オプションの選択にも、高い柔軟性
・低ダメージで高品質な 基板を維持するために最適化
・交換可能なライナーにより、チャンバーのメンテナンスが容易
・温度変化の影響が大きい表面に対しても、高品質な薄膜を実現する低温デポジション

■機能・エリプソメトリーなどのin-situ分析装置を統合するためのチャンバーポートおよびウィンドウ
・200mmまでの基板を搭載できる自動枚葉式ロードロック
・チャンバー間の真空搬送を行うプロセスモジュールを追加してクラスタ化が可能
・プリカーサー交換の手順をチェックリスト付きでモニターに表示
・スルーザウォール構造でクリーンルームインターフェースが利用可能
・オゾン発生器の組み込みが可能
・幅広い電極オプション-グラウンド電極とバイアス電極
・水分に影響を受けやすい窒化物や金属に有効なターボ分子ポンプ
・導電性、結晶性、応力制御など、膜の特性を向上させるRFテーブルバイアスオプション

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム

取扱企業
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

カテゴリ

半導体製造

ALD装置

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プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	ウェハサイズ	プラズマ源発生装置	温度範囲	プリカーサ	クラスター化可能モジュール
	FlexAL ALD	要見積もり	最大200mm	300Wまたは600W	30~550 ℃ (テーブルバイアス使用)	研究用 (100g まで) 、製造用 (500g まで) のプリカーサオプション金属液体または固体のラピッドバブリングプリカーサーを最大8個まで使用可能最大10個のプラズマおよび熱ガスプリカーサ	PECVD、ICPCVD、RIE、スパッタリングモジュール