全てのカテゴリ

閲覧履歴

  1. Metoree
  2. ALD装置
  3. 高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム (オックスフォード・インストゥルメンツ)
高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-Atomfab
高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社の対応状況

返信の比較的早い企業 評判のとても良い企業

返答率

100.0%

返答時間

22.3時間

企業レビュー

5.0

無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは、市販されている中で最も高速なリモートプラズマALD装置です。

■製造現場のニーズに応えるソリューション

・優位性のある所有コスト ・迅速かつ、メンテナンスが容易 ・薄膜の高い均一性 ・高品質の材料 ・基板の低ダメージ ・サイクルタイムの短縮による高いスループット ・クラスター化・自動ウェハハンドリングを実現 AtomfabのALD技術により、ナノスケールの高度なアプリケーション向けに、精密にコントロールされた超薄膜が提供され、微細な基板構造のコンフォーマルコーティングが可能です。

■パワー/RFデバイスのパッシベーションにおけるプロセスの利点

・当社エンジニアによるプロセス設定保証 ・追加または新規のプロセスの永久的サポート ・低ダメージのプラズマプロセス ・コンタミの少ない高品質なデポジションを実現 ・低パーティクルレベル ・短いプラズマ照射時間によりハイスループットを実現 ・プラズマ表面前処理

■GaN、パワー／RFデバイスにおけるプラズマALDの優位性

・デポジション前のプラズマ前処理により、界面品質を向上 ・低ダメージ、均質な成膜 ・ゼロ付近から30eVまで制御されたイオンエネルギーによるリモートプラズマALD ・ALDによるパッシベーションやAl2O3ゲート絶縁体膜 製造現場にリモートプラズマ ALD がもたらす、スループットの向上と均一性の改善

■プラズマ

革新的なプラズマソース：Atomfabは、原子スケールプロセス用に特別に設計された特許出願中のリモートプラズマソースを使用しています。 ・デバイスの性能を最大限に引き出すため、デリケートな基板に与えるダメージは低い。 ・均一なプラズマ照射と成膜により、高速なサイクルタイムと信頼性を実現。 ・特許出願中のAMUにより、短時間のプラズマ (250ms) を実現。 ・短い照射時間 (80ms) で高いスループット。 ・再現性の高い照射時間と低い反射パワーにより高い歩留まりを実現。

  • シリーズ

    高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム

企業レビュー

レビューは全てメトリー経由で実際に見積もりをしたユーザーによるものです

5.0

評判がとても良い

5
100.0%
4
0.0%
3
0.0%
2
0.0%
1
0.0%

2025年3月25日にレビュー

初回返答までの時間・22.17時間

この製品を共有する


560人以上が見ています

返答率: 100.0%

返答時間: 22.3時間

無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

見積もりの使い方

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) ウェハ膜厚均一性 Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) ウェハ間膜厚再現性 Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) 耐電圧
高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-品番-Atomfab

Atomfab

要見積もり

<±1.0%

<±1.0%

≥7.0MV/cm

ALD装置注目ランキング

もっと見る

ALD装置の製品60点中、注目ランキング上位6点

1 薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 超高真空スパッタリング装置

神港精機株式会社

870人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

2 薄膜形成装置 インラインスパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 インラインスパッタリング装置

神港精機株式会社

800人以上が見ています

最新の閲覧: 15時間前

3 真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD-株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

株式会社魁半導体

4.0 企業レビュー

660人以上が見ています

4 薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置

神港精機株式会社

640人以上が見ています

最新の閲覧: 13分前

5 プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

620人以上が見ています

最新の閲覧: 1秒前

6 立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置-株式会社DINOVAC

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置

株式会社DINOVAC

580人以上が見ています

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

ALD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

1 プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

プリカーサー・プロセスガス・ハードウェア構成に高い柔軟性 FlexAL ALD原子層堆積システム

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

620人以上が見ています

最新の閲覧: 1秒前

返答時間: 22.27時間

2 立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置-株式会社DINOVAC

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置

株式会社DINOVAC

580人以上が見ています

返答時間: 9.82時間

3 高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

560人以上が見ています

返答時間: 22.27時間

4 光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ-三弘エマテック株式会社

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ

三弘エマテック株式会社

4.5 企業レビュー

520人以上が見ています

返答時間: 21.27時間

5 原子層堆積装置 ALDシリーズ-三弘エマテック株式会社

原子層堆積装置 ALDシリーズ

三弘エマテック株式会社

4.5 企業レビュー

450人以上が見ています

返答時間: 21.27時間

6 DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞-ナノテック株式会社

DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞

ナノテック株式会社

440人以上が見ています

返答時間: 16.84時間

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

フィルターから探す

ALD装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

機能

単層ALD 複層ALD 高速ALD

温度管理

高温ALD 低温ALD

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

この商品を見た方はこちらもチェックしています

薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置-神港精機株式会社

薄膜形成装置 マルチチャンバスパッタリング装置

神港精機株式会社

640人以上が見ています

最新の閲覧: 13分前

返答時間: 162.85時間

ALD装置
DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞-ナノテック株式会社

DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞

ナノテック株式会社

440人以上が見ています

返答時間: 16.84時間

ALD装置

3種類の商品があります

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置-株式会社DINOVAC

立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置

株式会社DINOVAC

580人以上が見ています

返答時間: 9.82時間

ALD装置
真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD-株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

株式会社魁半導体

4.0 企業レビュー

660人以上が見ています

返答時間: 45.29時間

ALD装置
光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ-三弘エマテック株式会社

光学薄膜用蒸着装置 SGC-S1700シリーズ

三弘エマテック株式会社

4.5 企業レビュー

520人以上が見ています

返答時間: 21.27時間

ALD装置
原子層堆積装置 ALDシリーズ-三弘エマテック株式会社

原子層堆積装置 ALDシリーズ

三弘エマテック株式会社

4.5 企業レビュー

450人以上が見ています

返答時間: 21.27時間

ALD装置
薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置-北野精機株式会社

薄膜作製装置 マグネトロン・スパッタリング蒸着装置

北野精機株式会社

490人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前

返答時間: 24.90時間

ALD装置
太陽電池用PVD成膜装置 GENERIS PVD-株式会社メディア研究所

太陽電池用PVD成膜装置 GENERIS PVD

株式会社メディア研究所

310人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返答時間: 13.55時間

ALD装置
Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -株式会社北海光電子

Atomic Layer Deposition (原子層堆積)

株式会社北海光電子

320人以上が見ています

ALD装置
卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XT-S/DP™-株式会社エイチ・ティー・エル

卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XT-S/DP™

株式会社エイチ・ティー・エル

100人以上が見ています

ALD装置
原子層堆積装置 ALD Series-株式会社昭和真空

原子層堆積装置 ALD Series

株式会社昭和真空

80人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

ALD装置
原子層堆積装置 ALDER-800P-株式会社オプトラン

原子層堆積装置 ALDER-800P

株式会社オプトラン

70人以上が見ています

返答時間: 145.63時間

ALD装置
ALD装置をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

返答率

100.0%

返答時間

22.3時間

企業レビュー

5.0

会社概要

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

もっと見る

  • 本社所在地: 東京都

関連キーワード

ALD装置
ALD装置　オックスフォード・インストゥルメンツ
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
Copyright © 2025 Metoree