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高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-Atomfab
高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム
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この製品について

Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは、市販されている中で最も高速なリモートプラズマALD装置です。

■製造現場のニーズに応えるソリューション

・優位性のある所有コスト ・迅速かつ、メンテナンスが容易 ・薄膜の高い均一性 ・高品質の材料 ・基板の低ダメージ ・サイクルタイムの短縮による高いスループット ・クラスター化・自動ウェハハンドリングを実現 AtomfabのALD技術により、ナノスケールの高度なアプリケーション向けに、精密にコントロールされた超薄膜が提供され、微細な基板構造のコンフォーマルコーティングが可能です。

■パワー/RFデバイスのパッシベーションにおけるプロセスの利点

・当社エンジニアによるプロセス設定保証 ・追加または新規のプロセスの永久的サポート ・低ダメージのプラズマプロセス ・コンタミの少ない高品質なデポジションを実現 ・低パーティクルレベル ・短いプラズマ照射時間によりハイスループットを実現 ・プラズマ表面前処理

■GaN、パワー／RFデバイスにおけるプラズマALDの優位性

・デポジション前のプラズマ前処理により、界面品質を向上 ・低ダメージ、均質な成膜 ・ゼロ付近から30eVまで制御されたイオンエネルギーによるリモートプラズマALD ・ALDによるパッシベーションやAl2O3ゲート絶縁体膜 製造現場にリモートプラズマ ALD がもたらす、スループットの向上と均一性の改善

■プラズマ

革新的なプラズマソース：Atomfabは、原子スケールプロセス用に特別に設計された特許出願中のリモートプラズマソースを使用しています。 ・デバイスの性能を最大限に引き出すため、デリケートな基板に与えるダメージは低い。 ・均一なプラズマ照射と成膜により、高速なサイクルタイムと信頼性を実現。 ・特許出願中のAMUにより、短時間のプラズマ (250ms) を実現。 ・短い照射時間 (80ms) で高いスループット。 ・再現性の高い照射時間と低い反射パワーにより高い歩留まりを実現。

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    高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム

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高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) ウェハ膜厚均一性 Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) ウェハ間膜厚再現性 Plasma ALD Al2O3 ( 300 ℃) 耐電圧
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オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社は科学研究機器、半導体プロセス装置、分析機器の輸入販売・修理・買取を行っている企業です。 1991年にイギリスのオックスフォード・インストゥルメンツの日本法人として設立されま...

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