高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム-Atomfab

高速なリモートプラズマALD装置 AtomfabALD原子堆積システム
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この製品について

Atomfabにより、GaNパワー/RFデバイス向けの高速、低ダメージ、低所有コスト製造に対応したプラズマALDプロセスが実現します。Atomfabは、市販されている中で最も高速なリモートプラズマALD装置です。

■製造現場のニーズに応えるソリューション・優位性のある所有コスト
・迅速かつ、メンテナンスが容易
・薄膜の高い均一性
・高品質の材料
・基板の低ダメージ
・サイクルタイムの短縮による高いスループット
・クラスター化・自動ウェハハンドリングを実現

AtomfabのALD技術により、ナノスケールの高度なアプリケーション向けに、精密にコントロールされた超薄膜が提供され、微細な基板構造のコンフォーマルコーティングが可能です。

■パワー/RFデバイスのパッシベーションにおけるプロセスの利点・当社エンジニアによるプロセス設定保証
・追加または新規のプロセスの永久的サポート
・低ダメージのプラズマプロセス
・コンタミの少ない高品質なデポジションを実現
・低パーティクルレベル
・短いプラズマ照射時間によりハイスループットを実現
・プラズマ表面前処理

■GaN、パワー／RFデバイスにおけるプラズマALDの優位性・デポジション前のプラズマ前処理により、界面品質を向上
・低ダメージ、均質な成膜
・ゼロ付近から30eVまで制御されたイオンエネルギーによるリモートプラズマALD
・ALDによるパッシベーションやAl2O3ゲート絶縁体膜

製造現場にリモートプラズマ ALD がもたらす、スループットの向上と均一性の改善

■プラズマ革新的なプラズマソース：Atomfabは、原子スケールプロセス用に特別に設計された特許出願中のリモートプラズマソースを使用しています。
・デバイスの性能を最大限に引き出すため、デリケートな基板に与えるダメージは低い。
・均一なプラズマ照射と成膜により、高速なサイクルタイムと信頼性を実現。
・特許出願中のAMUにより、短時間のプラズマ (250ms) を実現。
・短い照射時間 (80ms) で高いスループット。
・再現性の高い照射時間と低い反射パワーにより高い歩留まりを実現。