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クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000-NC8000
クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000-キヤノンアネルバ株式会社

クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000
キヤノンアネルバ株式会社

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この製品について

大口径イオンビーム、クランプレスのIBEモジュールで高い加工性能を実現するMTJ素子加工向けのエッチング装置です。 従来の反応性エッチングでは加工が困難なMRAM多層磁性膜を一括してエッチングすることが可能なイオンビームエッチング装置です。高い加工性能と生産性を実現できます。

■用途

MRAMの量産

■特長

・大口径Gridによる高い均一性と生産性 ・クランプレスホルダーによる全面エッチング ・OES (光学式エンドポイントシステム) によるMRAM多層膜で使用される各種金属膜の検出

  • シリーズ

    クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000

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クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置構成 対応基板サイズ
クラスター MRAM用ドライエッチング装置 NC8000-品番-NC8000

NC8000

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クラスター式

φ300 mm

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キヤノンアネルバ株式会社

会社概要

キヤノンアネルバ株式会社は1967年に設立し、長年培った真空、薄膜技術をベースに開発した各種装置、真空コンポーネントを製造、販売するメーカーです。 半導体デバイスやストレージデバイスの製造装置をはじめとする、超真空技術...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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